1.

国際会議録
国際会議録
1. Evolving the Shapes of Large Aspect Ratio Microstructures Through Plasma etching
Tandon,U.S. ; Pant,B.D.
出版情報: Physics of - Semiconductor Devices -.  Part 2  pp.1068-1070,  1998.  New Delhi.  Narosa Publishing House
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3316
2.

国際会議録
国際会議録
2. Plasma Processing for the Fabrication of a Nanotransistor
Tandon,U.S. ; Eisele,I.
出版情報: Semiconductor Devices.  pp.641-643,  1996.  Bellingham, WA, New Delhi.  SPIE-The International Society for Optical Engineering — Narosa
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2733
3.

国際会議録
国際会議録
3. Development of Poly Buffer Isolation Technology at CEERI
Andhare,P.N. ; Tandon,U.S. ; Joshi,B.C. ; Pathak,B.C. ; Chandra,S. ; Wadhawan,O.P.
出版情報: Proceedings of the Tenth International Workshop on the Physics of Semiconductor Devices (December 14-18, 1999).  Part2  pp.811-814,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3975