1.

国際会議録
国際会議録
1. Mobility-Enhanced Device Technologies Using SiGe/Ge MOS Channels
S. Takagi ; T. Irisawa ; T. Tezuka ; S. Nakaharai ; T. Numata
出版情報: ULSI process integration 5.  pp.61-74,  2007.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 11(6)
2.

国際会議録
国際会議録
2. Uniaxially Strained SGOI and SSOI Channels for High Performance Multi-Gate CMOS
T. Irisawa ; T. Numata ; T. Tezuka ; K. Usuda ; N. Hirashita
出版情報: SiGe, Ge, and Related Compounds 3: Materials, Processing, and Devices.  pp.367-379,  2008.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 16(10)