1.

国際会議録

国際会議録
S. Lee ; C. Lee ; T. Jeong ; H. Kim
出版情報: Advanced gate stack, source/drain and channel engineering for Si-based CMOS 4 : new materials, processes and equipment.  pp.367-374,  2008.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 13(1)
2.

国際会議録

国際会議録
T. Kim ; S. Choi ; T. Jeong ; S. Kang ; K. Shim
出版情報: SiGe, Ge, and Related Compounds 3: Materials, Processing, and Devices.  pp.127-133,  2008.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 16(10)
3.

国際会議録

国際会議録
T. Kim ; S. Choi ; T. Jeong ; S. Kang ; K. Shim
出版情報: SiGe, Ge, and Related Compounds 3: Materials, Processing, and Devices.  pp.875-880,  2008.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 16(10)