1.

国際会議録
国際会議録
1. Prospect of Hf-Dared Gate Dielectric by PVD with FUSI Gate for LSTP Application
M. Niwa ; R. Mitsuhashi ; S. Hayashi ; K. Yamamoto ; Y. Harada ; M. Kubota ; A. Rothchild ; T. Hoffmann ; S. Kubicek ; S. DeGendt ; M. Heyns ; A. Lauwers ; S. Biesemans ; J. Kittle
出版情報: Physics and technology of high-k gate dielectrics III.  pp.269-286,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 1(5)
2.

国際会議録
国際会議録
2. Metabolic Engineering in Fragaria x ananassa for the Production of Epiafzelechin and Phenylpropenoids
W. Schwab ; T. Hoffmann ; M. Griesser
出版情報: Flavor and health benefits of small fruits.  pp.293-300,  2010.  Washington DC.  American Chemical Society
シリーズ名: ACS symposium series
シリーズ巻号: 1035
3.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
3. Influence of Metal Vapor on Transport Properties of Common Inert-Gas Mixtures
T. Hoffmann ; U. Riedel
出版情報: AIAA meeting papers on disc.  2008.  Reston, Va..  American Institute of Aeronautics and Astronautics
シリーズ名: AIAA Paper : AIAA Thermophysics Conference
シリーズ巻号: 2008