1.

国際会議録
国際会議録
1. Integration of a new alignment sensor for advanced technology nodes
P. Hinnen ; J. Depre ; S. Tanaka ; S. Lim ; O. Brioso ; M. Shahrjerdy ; K. Ishigo ; T. Kono ; T. Higashiki
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
2.

国際会議録
国際会議録
2. Aberration budget in extreme ultraviolet lithography
Y. Nakajima ; T. Sato ; R. lnanami ; T. Nakasugi ; T. Higashiki
出版情報: Emerging lithographic technologies XII.  1  pp.69211A-1-69211A-10,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6921
3.

国際会議録
国際会議録
3. A cost model comparing image qualification and direct mask inspection
K. Bhattacharyya ; V. Hazari ; D. Sutherland ; T. Higashiki
出版情報: EMLC 2007 : 23rd european mask and lithography conference : 22-25 January 2007, Grenoble, France.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6533