1.

国際会議録
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1. The Influence of As Over-Pressure on Sn Rapid Thermal Diffusion from SOG into GaAs
Hernandes, C.S. ; Swart, J.W. ; Shacham-Diamand, Y.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Large Area Wafer Growth and Processing for Electronic and Photonic Devices and the twentieth State-of-the-Art Program on Compound Semiconductors (SOTAPOCS XX).  pp.65-72,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-18
2.

国際会議録
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2. Advances in the Process and in the Methodology of Emulsion Optical Mask Construction
de Lara, D.S. ; Ferreira, L.O.S. ; Swart, J.W.
出版情報: Microelectronics technology and devices : SBMICRO 2003 : proceedings of the eighteenth international symposium.  pp.371-379,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-9
3.

国際会議録
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3. Orientation-Dependent Anisotropic Etching Simulation in Silicon Wafer
Neli, R.R. ; Doi, I. ; Ribas, R.P. ; Diniz, J.A. ; Swart, J.W.
出版情報: Microelectronics technology and devices : SBMICRO 2003 : proceedings of the eighteenth international symposium.  pp.389-397,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-9
4.

国際会議録
国際会議録
4. Three-Color Detector for APS-CMOS Image Sensors Employing a Yriple Junction
Mestanza, S.N.M ; Manera, L.T. ; de Sousa, A.C.T ; Silva, I.F. ; Doi, I. ; Swart, J.W.
出版情報: Microelectronics technology and devices : SBMICRO 2003 : proceedings of the eighteenth international symposium.  pp.428-436,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-9
5.

国際会議録
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5. Fabrication of Submicron Structures in Polycristalline Silicon by Reactive Ion Etching Using Fluorine- and Chlorine- Containing Plasmas
Reyes-Betanzo, C. ; Moshkalyov, S.A. ; Seabra, A.C. ; Swart, J.W.
出版情報: Microelectronics technology and devices : SBMICRO 2003 : proceedings of the eighteenth international symposium.  pp.357-362,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-9
6.

国際会議録
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6. Modeling and Simulation of Static Characteristics of a pMOS Coinpatihie Hot Wire Principle- Based Flow Micro-sensor
Junior, A.C.O. ; Doi, I. ; Diniz, J.A. ; Swart, J.W. ; Simocs, E.W.
出版情報: Microelectronics technology and devices : SBMICRO 2003 : proceedings of the eighteenth international symposium.  pp.437-444,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-9
7.

国際会議録
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7. Ultra-Thin Silicon Oxynitride Gate-Dielectric Made by ECR Plasmas
Manera, G.A. ; Diniz, J.A. ; Doi, I. ; Swart, J.W.
出版情報: Advanced short-time thermal processing for Si-based CMOS devices : proceedings of the international symposium.  pp.216-221,  2004.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2004-01
8.

国際会議録
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8. Formation of Nickel Silicides onto (100) Silicon Wafcr Surfaces Using a Thin Platinum Interlayer
Reis, R.W. ; dos Santos Filho, S.G. ; Doi, I. ; Swart, J.W.
出版情報: Microelectronics technology and devices : SBMICRO 2003 : proceedings of the eighteenth international symposium.  pp.259-266,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-9
9.

国際会議録
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9. Selective Silicon Nitride Etching by ECR Plasmas Using SF6 and NF3 Based Gas Mixtures
Reyes-Betanzo, C. ; Moshkalyov, S.A. ; Swart, J.W. ; Ramos, A.C.S.
出版情報: Microelectronics technology and devices : SBMICRO 2003 : proceedings of the eighteenth international symposium.  pp.292-301,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-9
10.

国際会議録
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10. The Effect of Nitrogen Concentration at Silicon Oxynitride Gate Insulators Formed by 28N2+ Implantation into Silicon with Additional Conventional or Rapid Thermal Oxidation
Felicio, A.G. ; Diniz, J.A. ; Godoy Fo., J. ; Doi, I. ; Pudeozi, M.A.A. ; Swart, J.W.
出版情報: Microelectronics technology and devices : SBMICRO 2003 : proceedings of the eighteenth international symposium.  pp.250-258,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-9