1.

国際会議録
国際会議録
1. Aqueous Slurries in Chemical Mechanical Polishing: Adsorption of Silicate Ions by Ceria
Osseo-Asare, K. ; Suphantharida, P.
出版情報: Chemical Mechanical Planarization : proceedings of the International Symposium.  pp.222-228,  2000.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-26
2.

国際会議録
国際会議録
2. Cerium Oxide Slurries in Chemical Mechanical Polishing: Silica/Ceria Interactions
Suphantharida, P. ; Osaco-Asare, K.
出版情報: Chemical Mechanical Planarization : proceedings of the International Symposium.  pp.257-265,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-1