1.

国際会議録
国際会議録
1. Comparison of the mechanisms of hydrogenation by rf plasma and SiNx
Wang,L-M. ; Sung,H.-J. ; Lu,I-M. ; Wu,I-W.
出版情報: Display technologies III : 26-27 July 2000, Taipei, Taiwan.  pp.55-58,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4079
2.

国際会議録
国際会議録
2. Amorphous-silicon thin film transistor with two-step exposure process
Chen,P.-F. ; Chen,J.-H. ; Chen,D.-I. ; Sung,H.-J. ; Hwang,J.-W. ; Lu,I.-M.
出版情報: Display technologies III : 26-27 July 2000, Taipei, Taiwan.  pp.217-220,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4079