1.

国際会議録
国際会議録
1. THE SLOPE ETCHING OF a-Si:H FILM USING CF4 + O2 GAS
Sung, K.H. ; Park, B.W. ; Kim, J.I. ; Kim, J.J. ; Bae, H.K. ; Park, Y.H. ; Hur, C.W.
出版情報: Amorphous silicon technology 1991 : symposium held April 30-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.811-818,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 219
2.

国際会議録
国際会議録
2. The Use of Dispersive Double Crystal Monochromator ? A Way for High-Resolution Powder Diffractometry
Mikula, P. ; Vrana, M. ; Choi, Y.N. ; Kim, S.A. ; Oh, H.S. ; Sung, K.H. ; Lee, C.H.
出版情報: ECRS 6 : proceedings of the 6th European Conference on Residual Stresses, Coimbra, Portugal, 10-12 July, 2002.  pp.299-302,  2002.  Uetikon-Zuerich, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 404-407