1.

国際会議録
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1. Optimization of the chromium-shielding attenuated phase shift mask for 157-nm lithography
Kurose, E. ; Watanabe, K. ; Suganaga, T. ; Itani, T. ; Fujii, K.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.603-614,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
2.

国際会議録
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2. 157-nm lithography with high numerical aperture lens for 70-nm technology node
Suganaga, T. ; Kanda, N. ; Kim, J.-H. ; Yamabe, O. ; Watanabe, K. ; Furukawa, T. ; Miyoshi, S. ; Itani, T. ; Cashmore, J.S. ; Gower, M.C.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.584-593,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
3.

国際会議録
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3. Feasibility study of SCAAM-type Alt-PSM for 157-nm lithography
Morikawa, Y. ; Kokubo, H. ; Noguchi, K. ; Sasaki, S. ; Mohri, H. ; Hoga, M. ; Kanda, N. ; Irie, S. ; Watanabe, K. ; Suganaga, T. ; Itani, T.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Two  pp.1137-1145,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
4.

国際会議録
国際会議録
4. Control of side-lobe intensity for attenuated phase-shifting mask in 157-nm lithography
Watanabe, K. ; Kurose, E. ; Suganaga, T. ; Itani, T.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.736-744,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
5.

国際会議録
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5. 157-nm lithography for 65-nm node SRAM-gate
Suganaga, T. ; Irie, S. ; Miyoshi, S. ; Kim, J.-H. ; Watanabe, K. ; Kurose, E. ; Furukawa, T. ; Hagiwara, T. ; Ishimaru, T. ; Itani, T.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.261-269,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
6.

国際会議録
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6. Wavefront aberration measurement in 157-nm high numerical aperture lens
Kim, J.-H. ; Suganaga, T. ; Watanabe, K. ; Kanda, N. ; Itani, T. ; Cashmore, J.S. ; Gower, M.C.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Three  pp.1408-1419,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
7.

国際会議録
国際会議録
7. Sub-70-nm pattern fabrication using an alternating phase-shifting mask in 157-nm lithography
Irie, S. ; Kanda, N. ; Watanabe, K. ; Suganaga, T. ; Itani, T.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1654-1664,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
8.

国際会議録
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8. Feasibility study of TaSiOx-type Att-PSM for 157-nm lithography
Watanabe, K. ; Yamabe, O. ; Kanda, N. ; Kim, J. ; Uchida, N. ; Irie, S. ; Suganaga, T. ; Itani, T.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.444-451,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754
9.

国際会議録
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9. Advances in resist pattern transfer process using 157-nm lithography
Furukawa, T. ; Hagiwara, T. ; Kawaguchi, E. ; Matsunaga, K. ; Suganaga, T. ; Itani, T. ; Fujii, K.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.1064-1073,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
10.

国際会議録
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10. 157-nm lithography with extremely high numerical aperture lens for 45-nm technology node
Suganaga, T. ; Lee, J.-W. ; Kurose, E. ; Ishimaru, T. ; Furukawa, T. ; Itani, T. ; Fujii, K. ; Cashmore, J.S. ; Gower, M.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.104-115,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377