1.

国際会議録
国際会議録
1. ION-PROJECTION LITHOGRAPHY FOR SUBMICRON MODIFICATION OF MATERIALS
Stengl, G. ; Loschner, H. ; Maurer, W. ; Wolf, P.
出版情報: Energy beam-solid interactions and transient thermal processing/1984 : symposium held November 26-30, 1984, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.533-538,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 35
2.

国際会議録
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2. Masked ion beam lithography and direct structuring on curved surfaces
Loeschner, H. ; Buschbeck, H. ; Ecker, M. ; Horner, C. ; Platzgummer, E. ; Stengl, G. ; Zeininger, M. ; Ruchhoeft, P. ; Wolfe, J.C.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VII.  1  pp.156-161,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5037
3.

国際会議録
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3. Ion projection lithography (IPL): posters presented at the 5th International SEMATECH Next-Generation Lithography (NGL) workdhop (Invited Poster)
Kaesmaier, R. ; Loeschner, H. ; de Jager, P.W.H. ; Ehrmann, A. ; Hirscher, S. ; Kragler, K. ; Springer, R. ; Stengl, G. ; Wolter, A.
出版情報: 18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.235-239,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4764
4.

国際会議録
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4. Large-field ion optics for projection and proximity printing and for maskless lithography (MLZ)
Loeschner, H. ; Stengl, G. ; Buschbeck, H. ; Chalupka, A. ; Lammer, G. ; Platzgummer, E. ; Vonach, H. ; de Jager, P.W.H. ; Kaesmaier, R. ; Ehrmann, A. ; Hirscher, S. ; Wolter, A. ; Dietzel, A. ; Berger, R. ; Grimm, H. ; Terris, B.D. ; Bruenger, W.H. ; Adam, D. ; Boehm, M. ; Eichhorn, H. ; Springer, R. ; Butschke, J. ; Letzkus, F. ; Ruchhoeft, P. ; Wolfe, J.C.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VI.  Part Two  pp.595-606,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4688
5.

国際会議録
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5. Projection maskless lithography
Brandstatter, C. ; Loeschner, H. ; Stengl, G. ; Lammer, G. ; Buschbeck, H. ; Platzgummer, E. ; Doring, H.-J. ; Elster, T. ; Fortagne, O.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VIII.  pp.601-609,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5374