1.

国際会議録
国際会議録
1. THE CONTROL OF BORON AUTO-DOPING DURING DEVICE PROCESSING FOR P/P+ EPI WAFERS WITH NO BACK-SURFACE OXIDE SEAL
Binns, M.I. ; Kommu, S. ; Seacrist, M.R. ; Standley, R.W. ; Wise, R. ; Myers, D.J. ; Tisserand, D. ; Doyle, D.
出版情報: Semiconductor silicon 2002 : proceedings of the ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.682-693,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-2
2.

国際会議録
国際会議録
2. Investigation of second-harmonic generation for SOI wafer metrology
Pasternak, R. ; Jun, B. ; Schrimpf, R.D. ; Fleetwood, D.M. ; Alles, M.A. ; Dolan, R.P. ; Standley, R.W. ; Tolk, N.H.
出版情報: Silicon-on-insulator technology and devices XII : proceedings of the international symposium.  pp.383-388,  2005.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-03
3.

国際会議録
国際会議録
3. THE CONTROL OF BORON AUTO-DOPING DURING DEVICE PROCESSING FOR P/P+ EPI WAFERS WITH NO BACK-SURFACE OXIDE SEAL
Binns, M.J. ; Kommu, S. ; Seacrist, M.R. ; Standley, R.W. ; Wise, R. ; Myers, D.J. ; Tisserand, D. ; Doyle, D.
出版情報: Semiconductor silicon 2002 : proceedings of the ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.682-693,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-2