1.

国際会議録
国際会議録
1. Demonstration of damage-free mask repair using electron beam-induced processes
Liang, T. ; Stivers, A.R. ; Penn, M. ; Bald, D. ; Sethi, C. ; Boegli, V. ; Budach, M. ; Edinger, K. ; Spies, P.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.291-300,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
2.

国際会議録
国際会議録
2. A novel electron-beam-based photomask repair tool
Edinger, K. ; Becht, H. ; Becker, R. ; Bert, V. ; Boegli, V.A. ; Budach, M. ; Gyhde, S. ; Guyot, J. ; Hofmann, T. ; Hoinkis, O. ; Kaya, A. ; Koops, H.W. ; Spies, P. ; Weyrauch, B. ; Bihr, J.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.1222-1231,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256