1.

国際会議録
国際会議録
1. Three-Dimensional Oxidation Simulation with Elasto-Viscoplastic Model
Lee, J.-H. ; Son, M.-S. ; Hwang, H.-J
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Process Physics and Modeling in Semiconductor Technology.  pp.228-236,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-4
2.

国際会議録
国際会議録
2. Three-Dimensional Monte Carlo Simulation of Implanted Boron and Damage Distribution in Crystalline Silicon Considering Mask Structure
Son, M.-S. ; Lee, J.-H. ; Byun, K.-R. ; Hwang, H.-J.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Process Physics and Modeling in Semiconductor Technology.  pp.496-508,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-4