1.

国際会議録
国際会議録
1. Chromatic aberration-free TTL alignment system for 193-nm step-and-scan exposure system by using phase conjugate waves
Kwon,J.H. ; Sohn,Y.J. ; Hwang,H.C. ; Kim,D.H. ; Chung,H.B.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.971-977,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
2.

国際会議録
国際会議録
2. Alignment system for ArF excimer-laser-based step-and-scan system
Kim,D.H. ; Kim,J.S. ; Sohn,Y.J. ; Kwon,J.H. ; Lee,K.H. ; Choi,S.-S. ; Chung,H.B. ; Yoo,H.J. ; Kim,B.W.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.958-970,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
3.

国際会議録
国際会議録
3. Diffraction Ring Pattern and Z-Scan Measurement of Amorphous As2 S3 Thin Film,
Sohn,Y.J. ; Lee,Y.L. ; Kwak,C.H. ; Choe,O.S.
出版情報: Optics for science and new technology : 17th Congress of the International Commission for Optics, August 19-23, 1996, Hotel Riviera(Yusong), Taejon Korea.  Part2  pp.800-801,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2778
4.

国際会議録
国際会議録
4. Phase Hologram Formation Dynamics for Dichromated Gelatin Film,
Lee,Y.L. ; Im,Y.S. ; Sohn,Y.J. ; Kwak,C.H. ; Choe,O.S.
出版情報: Optics for science and new technology : 17th Congress of the International Commission for Optics, August 19-23, 1996, Hotel Riviera(Yusong), Taejon Korea.  Part2  pp.889-890,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2778