1.

国際会議録
国際会議録
1. Vacuum delay effect of CAR in mask fabrication
Kim,C.-H. ; Jeon,C.-U. ; Han,S.-J. ; Cho,W.-I. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: Emerging lithographic technologies V : 27 February-1 March, 2001, Santa Clara, [California], USA.  pp.285-293,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4343
2.

国際会議録
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2. Application of e-beam chemically amplified resist to devices below 0.18-μm node
Jeon,C.-U. ; Kim,C.-H. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: 17th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.160-163,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4349
3.

国際会議録
国際会議録
3. Evaluation of lens aberrations depending on the transmittance of DUV-attenuated PSM
Park,J.-H. ; Kim,Y.-H. ; Lim,S.-C. ; Lee,K.-H. ; Choi,S.-W. ; Yoon,H.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part2  pp.937-942,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873
4.

国際会議録
国際会議録
4. Analysis of photomask CD errors depending on development methods
Moon,S.-Y. ; Ki,W.-T. ; Cha,B.-C. ; Choi,S.-W. ; Yoon,H.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part2  pp.573-576,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873
5.

国際会議録
国際会議録
5. Doubly exposed patterning characteristics using two alternating phase-shift masks
Lee,S.-W. ; Shin,I.-G. ; Kim,Y.-H. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Yoon,H.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: 17th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.32-36,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4349
6.

国際会議録
国際会議録
6. Analysis of dry etch loading effect in mask fabrication
Lee,J.-Y. ; Cho,S.-Y. ; Kim,C.-H. ; Lee,S.-W. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.609-615,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
7.

国際会議録
国際会議録
7. Comparative study on MEEF and dose latitude between attenuated PSM and Cr Binary masks
Cho,H.-J. ; Kim,Y.-H. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VII.  pp.17-23,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4066
8.

国際会議録
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8. Effect of beam blur in mask fabrication
Yang,S.-H. ; Ki,W.-T. ; Moon,S.-Y. ; Jeong,T.-M. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.468-473,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186
9.

国際会議録
国際会議録
9. Mask considerations for manufacturing assist features
Choi,J.-H. ; Cho,W.-I. ; Kim,B.-S. ; Yang,S.-H. ; Moon,S.-Y. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.131-140,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
10.

国際会議録
国際会議録
10. Doubly exposed patterning using mutually one-pitch step-shifted alternating phase-shift masks
Lee,S.-W. ; Chung,D.-H. ; Shin,I.-G. ; Kim,Y.-H. ; Choi,S.-W. ; Han,W.-S. ; Sohn,J.-M.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.762-769,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346