1.

国際会議録
国際会議録
1. 0.11-μm imaging in KrF lithography using dipole illumination
Eurlings,M. ; Setten,E.van ; Torres,J.A. ; Dusa,M.V. ; Socha,R.J. ; Capodieci,L. ; Finders,J.
出版情報: Lithography for semiconductor manufacturing II : 30 May-1 June, 2001, Edinburgh, UK.  pp.266-278,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4404
2.

国際会議録
国際会議録
2. CD control comparison for sub-0.18-ｦﾌm patterning using 248-nm lithography and strong resolution enhancement techniques
Vandenberghe,G. ; Marschner,T. ; Ronse,K. ; Socha,R.J. ; Dusa,M.V.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.228-238,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
3.

国際会議録
国際会議録
3. KrF lithography for 130 nm
Finders,J. ; Schoot,J.B.van ; Vanoppen,P. ; Dusa,M.V. ; Socha,R.J. ; Vandenberghe,G. ; Ronse,K.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.192-205,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
4.

国際会議録
国際会議録
4. Modeling oblique incidence effects in photomasks
Pistor,T.V. ; Neureuther,A.R. ; Socha,R.J.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.228-237,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
5.

国際会議録
国際会議録
5. CD error sensitivity to "sub-killer" defects at k1 near 0.4:II
Nakagawa,K.H. ; Chen,J.F. ; Socha,R.J. ; Dusa,M.V. ; Laidig,T.L. ; Wampler,K.E. ; Caldwell,R.F. ; Broeke,D.J.van den
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part2  pp.893-904,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873
6.

国際会議録
国際会議録
6. Assessment of a hypothetical road map that extends optical lithography through the 70-nm technology node
Petersen,J.S. ; McCallum,M. ; Kachwala,N. ; Socha,R.J. ; Chen,J.F. ; Laidig,T.L. ; Smith,B.W. ; Gordon,R.L. ; Mack,C.A.
出版情報: Lithography for semiconductor manufacturing : 19-21 May 1999, Edinburgh, Scotland.  pp.73-89,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3741
7.

国際会議録
国際会議録
7. Dual damascene photo process using negative-tone resist
Shi,X. ; Fung,A.C. ; Hsu,S. ; Li,Z. ; Nguyen,T. ; Socha,R.J. ; Conley,W.E. ; Dusa,M.V.
出版情報: Advances in resist technology and processing XVII : 28 February - 1 March 2000, Santa Clara, USA.  Part2  pp.835-842,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3999
8.

国際会議録
国際会議録
8. Effects of advanced illumination schemes on design manufacturability and interactions with optical proximity corrections
Capodieci,L. ; Torres,J.A. ; Socha,R.J. ; Hollerbach,U. ; Chen,J.F. ; Os,C.van ; Granik,Yu. ; Toublan,O. ; Cobb,N.B.
出版情報: Challenges in process integration and device technology : 18-19 September 2000, Santa Clara, USA.  pp.58-67,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4181
9.

国際会議録
国際会議録
9. Forbidden pitches for 130-nm lithography and below
Socha,R.J. ; Dusa,M.V. ; Capodieci,L. ; Finders,J. ; Chen,J.F. ; Flagello,D.G. ; Cummings,K.D.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part2  pp.1140-1155,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
10.

国際会議録
国際会議録
10. Design of 200-nm,170-nm,and 140-nm DUV contact sweeper high-transmission attenuating phase-shift mask:?.Experimental results
Socha,R.J. ; Shi,X. ; Holman,K.C. ; Dusa,M.V. ; Conley,W. ; Petersen,J.S. ; Chen,J.F. ; Laidig,T.L. ; Wampler,K.E. ; Caldwell,R.F. ; Chu,M.C. ; Su,C. ; Huang,K. ; Chen,C. ; Le,C. ; Pierrat,C. ; Su,B.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.38-54,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679