1.

国際会議録
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1. * In Situ Sensors for CIGS Deposition and Manufacture
Repins, I. L. ; Gomes, N. ; Simpson, L. ; Joshi, B.
出版情報: Thin-film compound semiconductor photovoltaics : symposium held March 29-April 1, 2005, San Francisco, California, U.S.A..  pp.499-512,  2005.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 865
2.

国際会議録
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2. Characterization of Polysilicon Gate Etch with Ultra Thin Gate Oxide (<35 A゜) in a Decoupled Plasma Source Etcher
Lii, T. ; Park, E. ; Lutz, J. ; Wu, W. ; Simpson, L. ; Mui, D.
出版情報: Proceedings of the International Symposium on Thin Film Materials, Processes, Reliability, and Applications, Thin Film Processes.  pp.79-84,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-30
3.

国際会議録
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3. Tungsten Silicide/Polysilicon Stack Etching Using Mixed Fluorine-Chlorine Chemistry in a High Density Plasma Camber
Zaleski, M. ; Simpson, L. ; Guerry, A.
出版情報: Proceedings of the twelfth International Symposium on Plasma Processing.  pp.203-209,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-4
4.

国際会議録
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4. TEMPERATURE DEPENDENT AMORPHIZATION OF SILICON DURING SELF IMPLANTATION
Maszara, W.P. ; Rozgonyi, G.A. ; Simpson, L. ; Wortman, J.J.
出版情報: Beam-solid interactions and phase transformations : symposium held December 2-4, 1985, Boston, Massachusetts, USA.  pp.381-388,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 51