1.

国際会議録
国際会議録
1. Optical analysis of mirror-based pattern generation
Shroff, Y.A. ; Chen, Y. ; Oldham, W.G.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VII.  1  pp.550-559,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5037
2.

国際会議録
国際会議録
2. Layout decompression chip for maskless lithography
Nikolic, B. ; Wild, B. ; Dai, V. ; Shroff, Y.A. ; Warlick, B. ; Zakhor, A. ; Oldham, W.G.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VIII.  pp.1092-1099,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5374
3.

国際会議録
国際会議録
3. Image optimization for maskless lithography
Shroff, Y.A. ; Chen, Y. ; Oldham, W.G.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VIII.  pp.637-647,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5374