1.

国際会議録
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1. Feasibility study on the ArF attenuated phase-shift mask for 100-nm node lithography
Koo,S.-S. ; Kim,S.-J. ; Paek,S.-W. ; Ahn,C.-N. ; Ham,Y.-M. ; Shin,K.-S.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.770-777,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
2.

国際会議録
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2. Application of full-chip level optical proximity correction to memory device with sub-0.10-μm design rule and ArF lithography
Yune,H.-S. ; Kim,H.-B. ; Kim,W.-H. ; Ahn,C.-N. ; Ham,Y.-M. ; Shin,K.-S.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.241-250,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
3.

国際会議録
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3. Feasibility study of printing sub-100-nm with ArF lithography
Kim,S.-K. ; Hong,J.-G. ; Park,J.-O. ; Yoo,T.-J. ; Hyun,Y.-S. ; Bok,C.-K. ; Shin,K.-S.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.214-221,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
4.

国際会議録
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4. "Novel chemically amplified positive resist containing acetal-type crosslinker of poly(3,3'-dimethoxypropene) for 193-nm top surface imaging process"
Koh,C.-W. ; Jung,J.-C. ; Kim,M.-S. ; Kong,K.-K. ; Lee,G. ; Jung,M.-H. ; Kim,J.-S. ; Shin,K.-S.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XVIII.  4345  pp.798-803,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4345
5.

国際会議録
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5. Novel routes toward sub-70-nm contact windows by using new KrF photoresist
Kim,J.-S. ; Koh,C.-W. ; Lee,G. ; Jung,J.-C. ; Shin,K.-S.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XVIII.  4345  pp.232-240,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4345
6.

国際会議録
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6. Novel high-performance ArF resist for sub-100-nm lithography
Lee,G. ; Koh,C.-W. ; Jung,J.-C. ; Jung,M.-H. ; Kong,K.-K. ; Kim,J.-S. ; Shin,K.-S. ; Choi,S.-J. ; Kim,Y.-S. ; Choi,Y.-J. ; Kim,D.-B.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XVIII.  4345  pp.150-158,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4345
7.

国際会議録
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7. Comparison study on mask error factor in 100-nm ArF and KrF lithography
Eom,T.-S. ; Hyun,Y.-S. ; Kim,C.-K. ; Bok,C.-K. ; Shin,K.-S.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.869-878,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
8.

国際会議録
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8. Quantitative analysis of mask error effect on wafer CD variation in ArF lithography
Kim,S.-J. ; Koo,S.-S. ; Kim,S.-M. ; Ahn,C.-N. ; Ham,Y.-M. ; Shin,K.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.101-107,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
9.

国際会議録
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9. Impact of ArF attenuated PSM using multishifter layer (TiN/Si3N4) for next-generation lithography
Nam,K.-H. ; Kim,L.-J. ; Jeong,H.-S. ; Lee,S.-W. ; Lee,I.-S. ; Shin,C. ; Kim,H.-S. ; Dieu,L. ; Paek,S.W. ; Koo,S.-S. ; Bae,S.-M. ; Ham,Y.-M. ; Shin,K.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.70-80,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
10.

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10. Impact on wafer process of sub-120-nm design rule mask
Ham,Y.-M. ; Koo,S.S. ; Kim,S.J. ; Ma,W.-K. ; Shin,K.-S.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.937-947,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562