1.

国際会議録
国際会議録
1. Inverse lithography technology at chip scale [6154-41]
Lin, B. ; Shieh, M. F. ; Sun, J. ; Ho, J. ; Wang, Y. ; Wu, X. ; Leitermann, W. ; Lin, O. ; Lin, J. ; Liu, Y. ; Pang, L.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.615414-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
2.

国際会議録
国際会議録
2. Real-world impacts of inverse lithography technology [5992-72]
Ho, J. ; Wang, Y. ; Wu, X. ; Xilinx Inc. (USA) ; Lin, B. ; Shieh, M. F. ; Sun, J. ; Lin, O. ; Lin, J. ; Liu, Y. ; Pang, L.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59921Z-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992