1.

国際会議録
国際会議録
1. Deposition of Thin Film Transition Metal Oxides (TMO) on Glass by Combustion Chemical Vapour Deposition (C-CVD)
Benito, G. ; Davis, M.J. ; Hurst, S.J. ; Sheel, D.W. ; Pemble, M.F.
出版情報: Chemical vapor deposition XVI and EUROCVD 14 : proceedings of the international symposium.  pp.557-564,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-8
2.

国際会議録
国際会議録
2. Atmospheric-Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition (AP-PE-CVD) for Growth of Thin Films at Low Temperature
Davis, M.J. ; Tsanos, M. ; Lewis, J. ; Sheel, D.W. ; Pemble, M.E.
出版情報: Chemical vapor deposition XVI and EUROCVD 14 : proceedings of the international symposium.  pp.668-675,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-8
3.

国際会議録
国際会議録
3. The Influence of Film Thickness on Photoactivity for TiO2 Films Grown on Glass by CVD
Nolan, M. ; Sheel, D.W. ; Pemble, M.
出版情報: Chemical vapor deposition XVI and EUROCVD 14 : proceedings of the international symposium.  pp.417-423,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-8