1.

国際会議録
国際会議録
1. The next phase for immersion lithography [6154-06]
Sewell, H. ; Mulkens, J. ; McCafferty, D. ; Markoya, L. ; Streefkerk, B. ; Graeupner, P.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.615406-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
2.

国際会議録
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2. 157-nm Micrascan VII initial lithography results
Sewell, H. ; Tirri, B.A. ; O'Neil, T. ; Fahey, T.J. ; McCafferty, D.C. ; Reid, P.B. ; McClay, J.A.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.629-639,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
3.

国際会議録
国際会議録
3. Status 157-nm lithography development at IMEC
Ronse, K.G. ; Bisschop, P.D. ; Eliat, A. ; Goethals, A.M. ; Hermans, J. ; Jonckheere, R. ; Heuvel, D.V.D. ; Roey, F.V. ; Beckx, S. ; Wouters, J.M. ; Marneffe, J.F. ; O'Neil, T. ; Tirri, B. ; Sewell, H.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.640-649,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
4.

国際会議録
国際会議録
4. Exploring the resolution limits of phase-shift mask lithography with a very high numerical aperture ArF step-and-scan system
Sewell, H. ; Raval, P. ; McCafferty, D.C.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVI.  Part One  pp.443-454,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4689
5.

国際会議録
国際会議録
5. Extending optical lithography with immersion
Streefkerk, B. ; Baselmans, J. ; Gehoel-van Ansem, W. ; Mulkens, J. ; Hoogendam, C. ; Hoogendorp, M. ; Flagello, D.G. ; Sewell, H. ; Graupner, P.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.285-305,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
6.

国際会議録
国際会議録
6. Optical lithography with 157-nm technology
Modderman, T.M. ; Jasper, H. ; Boom, H. ; Uitterdijk, T. ; Dana, S. ; Sewell, H. ; O'Neil, T.K. ; Mulkens, J. ; Brunotte, M. ; Mecking, B. ; Gruner, T.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.816-826,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
7.

国際会議録
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7. Full-field imaging with a 157-nm scanner
Robinson, C. ; Seong, N. ; Kimmel, K. ; Brunner, T.A. ; Hibbs, M. ; Lercel, M.J. ; McCafferty, D. ; Sewell, H. ; O'Neil, T.K. ; Ivaldi, J. ; Andresen, K.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1669-1678,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
8.

国際会議録
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8. Overcoming the resolution challenge using special illumination techniques to print 50/50-nm nested contact holes at 157-nm wavelength
Baba-Ali, N. ; Sewell, H. ; Kreuzer, J.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Three  pp.1352-1362,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040