1.

国際会議録

国際会議録
Park, D.-I. ; Park, E.-S. ; Lee, J.-H. ; Jeong, W.-G. ; Seo, S.-K. ; Kwon, H.-J. ; Kim, J.-M. ; Jung, S.-M. ; Choi, S.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.78-85,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
2.

国際会議録

国際会議録
Jeong, W.-G. ; Lee, J.-K. ; Park, D.I. ; Park, E.-S. ; Lee, J.-H. ; Seo, S.-K. ; Lee, D.-H. ; Kim, J.-M. ; Choi, S.S. ; Jeong, S.H.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.626-633,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
3.

国際会議録

国際会議録
Park, D.-I. ; Seo, S.-K. ; Park, E.-S. ; Lee, J.-H. ; Jeong, W.-G. ; Kim, J.-M. ; Choi, S.-S. ; Jeong, S.-H.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.634-640,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
4.

国際会議録

国際会議録
Jeong, W.-G. ; Park, D.-I. ; Park, E.-S. ; Seo, S.-K. ; Kwon, H.-J. ; Kim, J.-M. ; Jung, S.-M. ; Choi, S.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.157-167,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
5.

国際会議録

国際会議録
Park, D.-I. ; Seo, S.-K. ; Jeong, W.-G. ; Park, E.-S. ; Lee, J.-H. ; Kwon, H.-J. ; Kim, J.-M. ; Jung, S.-M. ; Choi, S.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.190-196,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130