1.

国際会議録
国際会議録
1. THIN FILM GROWTH USING LOW-ENERGY MULTI-ION BEAM DEPOSITION SYSTEM
Shimizu, S. ; Sasaki, N. ; Ogata, S. ; Tsukakpshi, O. ; Seki, S. ; Yamakawa, H.
出版情報: Low energy ion beam and plasma modification of materials : symposium held April 30-May 2, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.347-352,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 223
2.

国際会議録
国際会議録
2. Study of Interfaces in Polymer Bilayers by Slow Positron Beam
Terashima, Y. ; Seki, S. ; Miyamoto, K. ; Tashiro, M. ; Honda, Y. ; Tagawa, S.
出版情報: Positron annihilation ICPA-13 : proceedings of the 13th International Conference on Positron Annihilation, Kyoto, Japan, September 2003.  pp.349-351,  2004.  Uetikon-Zuerich.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 445-446
3.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
3. Research and development status of advenced material gas-generator (AMG) project
Hiromatsu, M. ; Chikata, T. ; Ohama, S. ; Murakami, I. ; Yamamura, T. ; Sekido, T. ; Miyagawa, H. ; Seki, S.
出版情報: A.S.M.E. paper.  1995.  New York.  The American Society of Mechanical Engineers
シリーズ名: ASME Technical Paper : GT
シリーズ巻号: 1995
4.

国際会議録
国際会議録
4. Outgassing characteristics of acetal resists for 157-nm lithography investigated by time-resolved measurement
Matsui, Y. ; Seki, S. ; Matsui, S. ; Tagawa, S. ; Irie, S. ; Itani, T.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.178-185,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
5.

国際会議録
国際会議録
5. Dependence of outgassing characters and total amount of outgassed species at 157-nm exposure on the structures of resist base polymer
Matsui, Y. ; Umeda, S. ; Matsui, S. ; Seki, S. ; Tagawa, S. ; Ishikawa, S. ; Itani, T.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  1  pp.121-128,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039