1.

国際会議録
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1. *SINGLE CRYSTAL NiSi2/Si INTERFACES: FABRICATION, STRUCTURES, AND SCHOTTKY BARRIER HEIGHTS
Tung, R. T. ; Sullivan, J. P. ; Schrey, F. ; Levi, A. F. J.
出版情報: Heteroepitaxy of dissimilar materials : symposium held April 29-May 2, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.71-80,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 221
2.

国際会議録
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2. *AN INTERFACIAL PHASE TRANSFORMATION IN CoSi2/Si (111)
Eaglesham, D.J. ; Tung, R.T. ; Headrick, R.L. ; Robinson, I.K. ; Schrey, F.
出版情報: Atomic scale structure of interfaces : symposium held November 27-29, 1989, Boston Massachusetts, U.S.A..  pp.141-146,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 159
3.

国際会議録
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3. GROWTH AND EPITAXIAL CoSi2 AND NiSi2 ON (111), (100) AND (110) Si AT ROOM TEMPERATURE
Tung, R.T. ; Schrey, F.
出版情報: Layered structures : heteroepitaxy, superlattices, strain, and metastability : symposium held November 27-December 1, 1989, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.243-248,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 160
4.

国際会議録
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4. *EPITAXIAL SILICIDES: A SUMMARY OF RECENT DEVELOPMENTS
Tung, R.T. ; Schrey, F.
出版情報: Interfacial structure, properties, and design : symposium held April 5-8, 1988, Reno, Nevada, U.S.A..  pp.559-572,  1988.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 122
5.

国際会議録
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5. TOPOGRAPHY OF Si (111): CLEAN SURFACE PREPARATION AND SILICON MOLECULAR BEAM EPITAXY
Tung, R.T. ; Schrey, F. ; Eaglesham, D.J.
出版情報: Atomic scale structure of interfaces : symposium held November 27-29, 1989, Boston Massachusetts, U.S.A..  pp.321-326,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 159
6.

国際会議録
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6. THE FABRICATION OF NiSi2/Si(100) INTERFACES WITH CONTROLLED MORPHOLOGIES
Sullivan, J.P. ; Tung, R.T. ; Schrey, F. ; Graham, W.R.
出版情報: Semiconductor heterostructures for photonic and electronic applications : symposium held November 30-December 4, 1992, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.623-628,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 281
7.

国際会議録
国際会議録
7. GROWTH OF SINGLE CRYSTAL Si/NiSi2/Si(100) AND SiCoSi2/Si(100) STRUCTURES BY MOLECULAR BEAM EPITAXY AND FURNACE ANNEALING
Tung, R.T. ; Eaglesham, D.J. ; Schrey, F. ; Sullivan, J.P.
出版情報: Semiconductor heterostructures for photonic and electronic applications : symposium held November 30-December 4, 1992, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.641-646,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 281
8.

国際会議録
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8. CoSi2/Si(111) INTERFACE STRUCTURE AND ITS INFLUENCE ON THE SCHOTTKY BARRIER
Sullivan, J. P. ; Graham, W. R. ; Schrey, F. ; Eaglesham, D. J. ; Kola, R. ; Tung, R. T.
出版情報: Silicides, germanides, and their interfaces : Symposium held November 29-December 2, 1993, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.249-,  1994.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 320
9.

国際会議録
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9. RELATIONSHIP BETWEEN INTERFACE STRUCTURE AND SCHOTTKY BARRIER HEIGHT
Tung, R. T. ; Sullivan, J. P. ; Schrey, F.
出版情報: Interface control of electrical, chemical, and mechanical properties : symposium held November 29-December 3, 1993, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.3-,  1994.  Pittsburgh.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 318
10.

国際会議録
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10. Ti-Interlayer Mediated Epitaxy of CoSi2 with Ti Capping
Tung, R. T. ; Schrey, F.
出版情報: Silicide thin films - fabrication, properties, and applications : Symposium held November 27-30, 1995, Boston, Massachusetts, USA.  pp.173-,  1996.  Pittsburgh.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 402