1.

国際会議録
国際会議録
1. New UV-capable photomask CD metrology tool
Schlueter, G. ; Brueck, H. -J. ; Birkenmayer, S. ; Falk, G. ; Scheuring, G. ; Walden, L. ; Lehnigk, S.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology VI.  pp.592-598,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3748
2.

国際会議録
国際会議録
2. Actual performance data obtained on new transmitted light mask metrology system
Roeth, K.-D. ; Schlueter, G.
出版情報: 18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.161-167,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4764
3.

国際会議録
国際会議録
3. Next-generation mask metrology tool
Schlueter, G. ; Roeth, K.-D. ; Blaesing-Bangert, C. ; Ferber, M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.758-768,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754