1.

国際会議録
国際会議録
1. On End Point Detection of Plasma Etching via Optical Emission Interferometry
Wong, K.S. ; Boning, D.S. ; Sawin, H.H.
出版情報: Proceedings of the eleventh International Symposium on Plasma Processing.  pp.210-221,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-12
2.

国際会議録
国際会議録
2. Run-to-Run Process Control on a Dual-Coil Transformer Coupled Plasma Etcher with Full Wafer Interferometry and Spatially Resolved Optical Emission Spectroscopy
Le, M.S. ; Smith, T.H. ; Boning, D.S. ; Sawin, H.H.
出版情報: Proceedings of the Second International Symposium on Process Control, Diagnostics, and Modeling in Semiconductor Manufacturing.  pp.3-10,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-9
3.

国際会議録
国際会議録
3. Profile Evolution Simulation of High Density Plasma Etching of Patterned Polysilicon
Mahorowala, A.P. ; Chang, J.P. ; Sawin, H.H.
出版情報: Proceedings of the International Symposium on Thin Film Materials, Processes, Reliability, and Applications, Thin Film Processes.  pp.24-34,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-30
4.

国際会議録
国際会議録
4. Feature Profile Evolution during the High Density Plasma Etching of Patterned Polysilicon
Mahorowala, A.P. ; Sawin, H.H.
出版情報: Proceedings of the twelfth International Symposium on Plasma Processing.  pp.71-84,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-4
5.

国際会議録
国際会議録
5. Wafer Edge and Interferometry Limitations in Low Open Area Etch Endpoint Detection using Optical Emission Spectroscopy
Goodlin, B.E. ; Boning, D.S. ; Sawin, H.H. ; Yang, M.
出版情報: Plasma processing XIII : proceedings of the international symposium.  pp.100-123,  2000.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-6
6.

国際会議録
国際会議録
6. Etching of Silicon Oxide by HF/Solvent Mixtures Condensed from a Vapor Phase
Muscat, A.J. ; Lawing, A.S. ; Xu, H. ; Sawin, H.H.
出版情報: AIchE 1994 Annual Meeting : November 13-18 San Francisco Hilton and Towers Hotel, San Francisco, California.  1994.  New York.  American Institute of Chemical Engineers
シリーズ名: AIChE meeting [papers]
シリーズ巻号: 1994
7.

国際会議録
国際会議録
7. Quantitative Analysis and Comparison of Endpoint Detection Based on Multiple Wavelength Analysis - Part II: Noise Analysis of Multi-Wavelength OES
Goodlin, B.S. ; Boning, D.S. ; Sawin, H.H.
出版情報: Plasma processing XIV : proceedings of the international symposium.  pp.106-124,  2002.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-17
8.

国際会議録
国際会議録
8. Plasma-Surface Kinetics and Feature Profile Evolution in Cl2 + HBr Etching of Poly-silicon
Jin, W. ; Vitale, S.A. ; Sawin, H.H.
出版情報: Plasma processing XIV : proceedings of the international symposium.  pp.71-83,  2002.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-17
9.

国際会議録
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9. Deep Reactive Ion Etching of Silicon
Ayon, A.A. ; Chen, K-S. ; Lohner, K.A. ; Spearing, S.M. ; Sawin, H.H. ; Schmidt, M.A.
出版情報: Materials science of microelectromechanical systems (MEMS) devices : symposium held December 1-2, 1998, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.51-62,  1999.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 546
10.

国際会議録
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10. Etching vs Deposition: The Effect on Profiles and Etching Yield Curves for Oxide Etching
Kwon, O. ; Jin, W. ; Sawin, H.H.
出版情報: Plasma processing XIV : proceedings of the international symposium.  pp.251-262,  2002.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-17