1.

国際会議録
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1. Improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by numerically controlled plasma CVM [5869-17]
Shibahara, M. ; Yamamura, K. ; Sano, Y. ; Sugiyama, T. ; Endo, K. ; Mori, Y.
出版情報: Optical manufacturing and testing VI : 31 July-1 August 2005, San Diego, California, USA.  pp.58690I-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5869
2.

国際会議録
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2. Strengthening of Si3N4 Ceramics by Laser Peening
Akita, K. ; Sano, Y. ; Takahashi, K. ; Tanaka, H. ; Ohya, S.I.
出版情報: Residual stresses VII : ECRS 7 : proceedings of the 7th European conference on residual stresses, Berlin, Germany, 13-15 September 2006.  pp.141-146,  2006.  Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 524-525
3.

国際会議録
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3. Residual Stress State and Fatigue Behaviour of Laser Shock Peened Titanium Alloys
Altenberger, I. ; Sano, Y. ; Cherif, M.A. ; Nikitin, I. ; Schortes, B.
出版情報: Residual stresses VII : ECRS 7 : proceedings of the 7th European conference on residual stresses, Berlin, Germany, 13-15 September 2006.  pp.129-134,  2006.  Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 524-525
4.

国際会議録
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4. Highly Packed and Ultra-Large Si Grains Grown by a Single-Shot Irradiation of Excimer-Laser Light Pulse
Sano, Y. ; Yeh, W-C. ; Matsumura, M.
出版情報: Thin Film Transistor Technologies V : proceedings of the International Symposium.  pp.261-268,  2000.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-31
5.

国際会議録
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5. High Performance Poly-Si TFTs on Non-Alkali Glass Produced Using Continuous Wave Laser Lateral Crystallization
Hara, A. ; Takeuchi, F. ; Takei, M. ; Suga, K. ; Yoshino, K. ; Chida, M ; Sano, Y. ; Mishima, F. Kakehi. Y. ; Sasaki, N.
出版情報: Thin Film Transistor Technologies VI : proceedings of the international symposium.  pp.90-108,  2002.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-23
6.

国際会議録
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6. Development of a figure correction method having spatial resolution close to 0.1 mm
Mori, Y. ; Yamauchi, K. ; Yamamura, K. ; Mimura, H. ; Sano, Y. ; Saito, A. ; Endo, K. ; Souvorov, A. ; Yabashi, M. ; Tamasaku, K. ; Ishikawa, T.
出版情報: Advances in mirror technology for X-ray, EUV lithography, laser, and other applications : 7-8 August 2003, San Diego, California, USA.  pp.105-111,  2004.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5193
7.

国際会議録
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7. Compressive Residual Stress Evolution Process by Laser Peening
Akita, K. ; Tanaka, H. ; Sano, Y. ; Ohya, S. I.
出版情報: Residual stresses VII : ICRS 7 : proceedings of the 7th International Conference on Residual Stresses, ICRS-7 Xi'an, China, 14-17, June, 2004.  pp.370-375,  2005.  Uetikon-Zuerich, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 490-491
8.

国際会議録
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8. Theoretical Study on the Structures and Electronic Properties of Sc3-nLanN@C80 (n = 0-3).
Kobayashi, K. ; Sano, Y. ; Nagase, S.
出版情報: Fullerenes : fullerenes for the new millennium : proceedings of the International Symposium on Fullerenes, Nanotubes, and Carbon Nanoclusters.  pp.313-322,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-11
9.

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9. Fabrication technology of hard x-ray aspherical mirror optics and application to nanospectroscopy
Mori, Y. ; Yamauchi, K. ; Yamamura, K. ; Mimura, H. ; Sano, Y. ; Saito, A. ; Endo, K. ; Souvorov, A. ; Yabashi, M. ; Tamasaku, K. ; Ishikawa, T. ; Shimura, M. ; Ishizaka, Y.
出版情報: Advances in mirror technology for X-ray, EUV lithography, laser, and other applications : 7-8 August 2003, San Diego, California, USA.  pp.11-17,  2004.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5193
10.

国際会議録
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10. Are IPR-Satisfying Structures Most Stable for 5c3@C82 and 5c4@C82?
Kobayashi, K. ; Sano, Y. ; Nagase, S.
出版情報: Recent Advances in the Chemistry and Physics of Fullerenes and Related Materials : proceedings of the twelfth International Symposium.  pp.787-794,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-12