1.

国際会議録
国際会議録
1. Pupil optimization of incoherent imaging systems for improved CD linearity
Ivonin, I. ; Sandstrom, T.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.1792-1799,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
2. Flow Topology About an Orbiter Leading Edge Cavity at STS-107 Reentry Conditions
Brown , J. ; Tobak, M. ; Prabhu, D. ; Sandstrom, T.
出版情報: AIAA meeting papers on disc.  2004.  [Reston, Va.].  American Institute of Aeronautics and Astronautics
シリーズ名: AIAA Paper : AIAA Thermophysics Conference
シリーズ巻号: 37th
3.

国際会議録
国際会議録
3. Pupil and illuminator optimization in partially coherent imaging systems [6154-148]
Ivonin, I. ; Sandstrom, T.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61543U-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
4.

国際会議録
国際会議録
4. Gray scaling in high performance mask making [5853-94]
Martinsson, H. ; Sandstrom, T.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.1031-1043,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
5.

国際会議録
国際会議録
5. Gray scaling in high performance optical pattern generators [5992-30]
Martinsson, H. ; Sandstrom, T. ; Rockwell, B.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59920T-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
6.

国際会議録
国際会議録
6. SLM lithography: printing down to kl=O.30 without previous OPC processing [6154-71]
Sandstrom, T. ; Ivonin, I.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61541Y-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
7.

国際会議録
国際会議録
7. Transparent corner enhancement scheme for a DUV pattern generator
Martinsson, H. ; Hellgren, J. ; Eriksson, N. ; Bjuggren, M. ; Sandstrom, T.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.297-308,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
8.

国際会議録
国際会議録
8. Laser PG performance for 100-nm photomasks
Rosling, M. ; Karawajczyk, A. ; Askebjer, P. ; Zerne, R. ; Carroll, A.M. ; Eklund, R. ; Fosshaug, H. ; Sandstrom, T.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.759-766,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
9.

国際会議録
国際会議録
9. Resolution extensions in the Sigma7000 imaging paftern generator
Sandstrom, T. ; Eriksson, N.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.157-167,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
10.

国際会議録
国際会議録
10. RET for optical maskless lithography
Sandstrom, T. ; Martinsson, H.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1750-1763,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377