1.

国際会議録
国際会議録
1. An effective haze monitoring method
S.-P. Lu ; S.-H. Chiou ; W.-J. Tseng
出版情報: Photomask technology 2008.  2  pp.71223L-1-71223L-9,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7122
2.

国際会議録
国際会議録
2. Effective solution to reticle haze formation at 193nm lithography
W.-J. Tseng ; S.-H. Chiou ; M.-C. Chiu ; P.-S. Lee
出版情報: Lithography Asia 2008.  1  pp.71401V-1-71401V-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7140
3.

国際会議録
国際会議録
3. Analysis of adsorption effect of absorbent and threshold limit value (TLV) of Q-time for 193nm ArF reticle haze resistance
F.-S. Chu ; S.-H. Chiou
出版情報: Lithography Asia 2008.  2  pp.71403F-1-71403F-12,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7140