1.

国際会議録
国際会議録
1. Alternative technology for double patterning process simplification
H.-Y. Lim ; K.-Y. Jang ; J.-H. Kim ; S.-G. Lee ; S. Park
出版情報: Lithography Asia 2008.  1  pp.714020-1-714020-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7140
2.

国際会議録
国際会議録
2. Development of an internet-based water-1evel monitoring and measuring system using CCD camera
I. Shin ; J. Kim ; S.-G. Lee
出版情報: ICMIT 2007, mechatronics, MEMS, and smart materials.  2  pp.67944Q-1-67944Q-6,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6794
3.

国際会議録
国際会議録
3. The effect of KOH and KOH/IPA etching on the surface roughness of the silicon mold used for polymer waveguide imprinting
S. An ; S.-G. Lee ; B.-H. O ; H.-H. Kim ; S.-G. Park
出版情報: Optoelectronic integrated circuits X : 21-23 January 2008, San Jose, California, USA.  pp.689717-1-689717-7,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6897