1.

国際会議録
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1. Surface energy control techniques for photomask fabrication and their characterizations with scanning probe microscopy
M. Kurihara ; S. Hatakeyama ; K. Yoshida ; M. Abe ; D. Totsukawa
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XV.  2  pp.70282T-1-70282T-7,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7028
2.

国際会議録
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2. Development status of back-end process for UV-NIL template fabrication
Y. Inazuki ; K. Itoh ; S. Hatakeyama ; K. Kojima ; M. Kurihara
出版情報: Photomask technology 2008.  2  pp.71223Q-1-71223Q-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7122
3.

国際会議録
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3. Image contrast contributions to immersion lithography defect formation and process yield
B. Rathsack ; J. Hooge ; S. Scheer ; K. Nafus ; S. Hatakeyama
出版情報: Optical Microlithography XXI.  3  pp.69244W-1-69244W-11,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
4.

国際会議録
国際会議録
4. Process manufacturability evaluation for next generation immersion technology node
M. Enomoto ; T. Shimoaoki ; T. Otsuka ; S. Hatakeyama ; K. Nafus
出版情報: Advances in resist materials and processing technology XXV.  1  pp.69231W-1-69231W-12,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6923
5.

国際会議録
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5. Initial process evaluation for next generation immersion technology node
T. Tomita ; K. Nafus ; S. Hatakeyama ; H. Kosugi ; M. Enomoto ; S. Inoue ; K. Ruck ; H. Weichert ; M. B. Mantecon ; R. Stegen ; C. de Groot ; R. Moerman
出版情報: Advances in resist materials and processing technology XXIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6519