1.

国際会議録
国際会議録
1. Materials Interaction at the Nanoscale in High-k Metal Gate Stacks: The Role of Oxygen
S. Guha ; E. Preisler ; N. Bojarczuk ; M. Copel
出版情報: Physics and technology of high-k gate dielectrics III.  pp.363-370,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 1(5)
2.

国際会議録
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2. Enhanced Dielectric Constant of HfO₂ and Al₂O₃ Thin-Films with Silver Nanoparticles
K. Ravindran ; M. Othman ; M. Yun ; N. Biswas ; N. Mehta ; S. Guha ; K. Gangopadhyay ; S. Gangopadhyay
出版情報: Physics and technology of high-k gate dielectrics 4.  pp.535-544,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(3)
3.

国際会議録
国際会議録
3. Flexible, Lightweight, Amorphous Silicon Based Solar Cells on Polymer Substrate for Space and Near-Space Applications
K. Beernink ; A. Banerjee ; J. Yang ; K. Lord ; F. Liu ; G. DeMaggio ; G. Pietka ; C. Worrel ; S. Guha
出版情報: Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology--2011 : symposium held April 25-29, 2011, San Francisco, California, U.S.A..  pp.81-92,  2012.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 1321
4.

国際会議録
国際会議録
4. 11.0% Stable Efficiency on Large Area, Encapsulated a-Si:H and a-SiGe:H Based Multijunction Solar Cells Using HF Technology
A. Banerjee ; D. Beglau ; T. Su ; G. Pietka ; G. Yue ; B. Yan ; J. Yang ; S. Guha
出版情報: Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology--2011 : symposium held April 25-29, 2011, San Francisco, California, U.S.A..  pp.69-74,  2012.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 1321
5.

国際会議録
国際会議録
5. Light Soaking and Thermal Annealing Effects on the Micro-Electrical Properties of Amorphous and Nanocrystalline Mixed-Phase Silicon Solar Cells
C.-S. Jiang ; B. Yan ; H.R. Moutinho ; M.M. AI-Jassim ; J. Yang ; S. Guha
出版情報: Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology--2007 : symposium held April 9-13, 2007, San Francisco, California, U.S.A..  pp.15-22,  2007.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 989
6.

国際会議録
国際会議録
6. A SAXS Study of Hydrogenated Nanocrystalline Silicon Thin Films
K.G. Kiriluk ; D.L. Williamson ; D.C. Bobela ; C. Taylor ; B. Yan ; J. Yang ; S. Guha ; A. Madan ; F. Zhu
出版情報: Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology--2010 : symposium held April 5-9, 2010, San Francisco, California.  pp.271-276,  2010.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 1245
7.

国際会議録
国際会議録
7. Effect of Nitridation on Ge/HfO₂ Interface
R. Garg ; D. Misra ; S. Guha
出版情報: Physics and technology of high-k gate dielectrics III.  pp.17-26,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 1(5)
8.

国際会議録
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8. Charge Defects, Vt Shifts, and the Solution to the High-K Metal Gate n-MOSFET Problem
S. Guha ; V. Narayanan ; V. Paruchuri ; B. Linder ; M. Copel ; N. Bojarczuk ; Y. Kim ; M. Chudzik ; Y. Wang ; P. Ronsheim
出版情報: Advanced gate stack, source/drain and channel engineering for Si-based CMOS 2: new materials, processes, and equipment.  pp.247-252,  2006.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(2)
9.

国際会議録
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9. Recent Advances in Search for Suitable High-k/Metal Gate Solutions to Replace SiON/Poly-Silicon Gate Stacks in CMOS Devices for 45nm and Beyond Technologies
B. Linder ; V. Paruchuri ; V. Narayanan ; E. Cartier ; N. Bojarczuk ; S. Guha ; S. Brown ; Y. Wang
出版情報: Advanced gate stack, source/drain and channel engineering for Si-based CMOS 3 : new materials, processes and equipment.  pp.287-294,  2007.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 6(1)
10.

国際会議録
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10. Plasmonic Light-Trapping and Quantum Efficiency Measurements On Nanocrystalline Silicon Solar Cells and Silicon-On-Insulator Devices
Hui Zhao ; Birol Ozturk ; E.A. Schiff ; Baojie Yan ; J. Yang ; S. Guha
出版情報: Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology--2010 : symposium held April 5-9, 2010, San Francisco, California.  pp.59-64,  2010.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 1245