1.

国際会議録
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1. Requirements of nano-machining repair system for 45-nm node
S. -H. Lee ; H. -S. Kim ; H. -S. Shim ; S. -Y. Lee ; G. -B. Kim ; H. -J. Kwon ; S. -G. Woo ; H. -K. Cho
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
2.

国際会議録
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2. Cost-effective pattern inspection system using Xe-Hg lamp in challenge of sub-65-nm node
W. S. Kim ; J. H. Park ; D. -H. Chung ; S. -G. Woo
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
3.

国際会議録
国際会議録
3. Shot based MRC flow by using full chip MRC tool
M. -K. Ji ; S. -H. Jang ; S. -J. Son ; J. -H. Choi ; S. -G. Woo ; H. -K. Cho
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
4.

国際会議録
国際会議録
4. Image placement error of photomask due to pattern loading effect: analysis and correction technique for sub-45 nm node
J. Choi ; S. H. Lee ; D. Nam ; B. G. Kim ; S. -G. Woo
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XV.  2  pp.70281X-1-70281X-13,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7028
5.

国際会議録
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5. Distributed processing (DP) based e-beam lithography simulation with long range correction algorithm in e-beam machine
W. -T. Ki ; J. -H. Choi ; B. -G. Kim ; S. -G. Woo ; H. -K. Cho
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XV.  1  pp.70280E-1-70280E-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7028
6.

国際会議録
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6. Substrate effects on the characteristics of haze defect formation on the photomask surface under exposure condition
J. Choi ; H. Lee ; J. Jung ; B. C. Cha ; S. -G. Woo ; H. Cho
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607