1.

国際会議録
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1. EFFECT OF RIE SEQUENCE AND POST-RIE SURFACE PROCESSING ON THE RELIABILITY OF GATE OXIDE lN A TRENCH
Grebs, T. ; Ridley, R. ; Chang, K. ; Wu, C.-T. ; Agarwal, R. ; Mytych, J. ; Dimachkie, W. ; Dolny, G. ; Michalowicz, J. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing VIII : proceedings of the international symposium.  pp.108-115,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-26
2.

国際会議録
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2. STUDY OF THE EFFECT OF SILICON SURFCE TREATMENT ON EOT IN HIGH-k DIELECTRIC MOS GATE STACK
Chang, K. ; Shanmugasundaram, K. ; Lee, D.-O. ; Roman, P. ; Shallenberger, J. ; Chang, F.-M. ; Wang, J. ; Beck, R. ; Mumbauer, P. ; Grant, R. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing VIII : proceedings of the international symposium.  pp.78-85,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-26
3.

国際会議録
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3. LOW-TEMPERATURE ATMOSPHERIC AMBIENT RAPID LAMP CLEANING OF SILICON SURFACES
Roman, P. ; Tsai, C.-L. ; Hengstebeck, R. ; Pantano, C. ; Berry, J. ; Kamieniecki, E. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing : proceedings of the sixth international symposium.  pp.145-149,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-36
4.

国際会議録
国際会議録
4. EVOLUTION OF Si SURFACES AFTER ANHYDROUS HF:CH3OH ETCHING
Torek, K. ; Miechkowski, A. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.208-213,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20
5.

国際会議録
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5. MONITORING OF SILICON SURFACE AFTER REACTIVE ION ETCHING
Hwang, D.K. ; Ruzyllo, J. ; Kamieniecki, E.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.184-193,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20
6.

国際会議録
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6. Selective Remote Plasma Etching of Si3N4 Over SIO2 at Elevated Temperature
Staffa, J. ; Luther, B. ; Hwang, D. ; Ruzyllo, J. ; Grant, R. ; March, D.
出版情報: ULSI science and technology, 1995 : proceedings of the Fifth International Symposium on Ultra Large Scale Integration Science and Technology.  pp.283-289,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-5
7.

国際会議録
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7. Conditioning of Silicon Surface After RIE Using O2 and NF3 Remote Plasma
Hwang, D.K. ; Ruzyllo, J. ; Grant, R.
出版情報: ULSI science and technology, 1995 : proceedings of the Fifth International Symposium on Ultra Large Scale Integration Science and Technology.  pp.230-235,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-5
8.

国際会議録
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8. The Effect of Carbon in Silicon on Oxidation Kinetics and Silicon Dioxide Integrity
Ridley, R.S. ; Brozek, T. ; Ruzyllo, J.
出版情報: ULSI science and technology, 1995 : proceedings of the Fifth International Symposium on Ultra Large Scale Integration Science and Technology.  pp.436-443,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-5
9.

国際会議録
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9. 49 Characteristics of Hf(Si,O) Gate Dielectrics as a Function of Hf Content
Chang, K. ; Shallenberger, J. ; Chang, F.-M. ; Shanmugasundaram, K. ; Roman, P. ; Mumbauer, P. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Advanced gate stack, source/drain and channel engineering for Si-based CMOS, new materials, processes, and equipment : proceedings of the international symposium.  pp.404-410,  2005.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-05
10.

国際会議録
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10. REVERSING OF SILICON SURFACE AGING BY LAMP CLEANING
Shanmugasundaram, K. ; Chang, K. ; Shallenberger, J. ; Danel, A. ; Tardif, F. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing VIII : proceedings of the international symposium.  pp.348-355,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-26