1.

国際会議録
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1. Gas Phase Conditioning of Silicon Surface after Reactive Ion Etching
Hwang, D.K. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Proceedings of the eleventh International Symposium on Plasma Processing.  pp.555-563,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-12
2.

国際会議録
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2. EFFECT OF RIE SEQUENCE AND POST-RIE SURFACE PROCESSING ON THE RELIABILITY OF GATE OXIDE lN A TRENCH
Grebs, T. ; Ridley, R. ; Chang, K. ; Wu, C.-T. ; Agarwal, R. ; Mytych, J. ; Dimachkie, W. ; Dolny, G. ; Michalowicz, J. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing VIII : proceedings of the international symposium.  pp.108-115,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-26
3.

国際会議録
国際会議録
3. SILICON SURFACES EXPOSED TO ANHYDROUS HF/CH3OH ETCHING
Torek, K. ; Ruzyllo, J. ; Kamieniecki, E.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.384-391,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
4.

国際会議録
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4. REMOVAL OF Al FROM SILICON SURFACES USING UV/Cl2
Daffron, C. ; Torek, K. ; Ruzyllo, J. ; Kamieniecki, E.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.281-287,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
5.

国際会議録
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5. CLEANING OF SILICON SURFACE AFTER RIE USING UV/OZONE AND HF/CH3OH
Hwang, D.K. ; Ruzyllo, J. ; Kamieniecki, E.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.401-408,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
6.

国際会議録
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6. DETERMINATION OF NATIVE OXIDE REMOVAL IN CLUSTER COMPATIBLE DRY CLEANING SYSTEMS USING A SURFACE PHOTOVOLTAGE TECHNIQUE
Brubaker, M. ; Staffa, J. ; Roman, P. ; Fakhouri, S. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.408-414,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-35
7.

国際会議録
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7. Processing of Thick Thermal Gate Oxides in Trenchs
Wu, C.T. ; Ridley, R. ; Dolny, G. ; Grebs, T. ; Hao, J. ; Suliman, S. ; Venkataraman, B. ; Awadelkarim, O. ; Williams, R. ; Roman, P. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films : proceedings of the sixth International Symposium.  pp.127-133,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-7
8.

国際会議録
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8. MONITORING OF Fe CONTAMINATION ON Si SURFACES USING NON-CONTACT SURFACE CHARGE PROFILER
Roman, P. ; Kashkoush, I. ; Novak, R.E. ; Kamieniecki, E. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.344-349,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20
9.

国際会議録
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9. LOW-TEMPERATURE ATMOSPHERIC AMBIENT RAPID LAMP CLEANING OF SILICON SURFACES
Roman, P. ; Tsai, C.-L. ; Hengstebeck, R. ; Pantano, C. ; Berry, J. ; Kamieniecki, E. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing : proceedings of the sixth international symposium.  pp.145-149,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-36
10.

国際会議録
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10. THICKNESS DEPENDENT SENSITIVITY OF GATE OXIDES TO SURFACE CONTAMINATION
Ridley, R. ; Wu, C.-T. ; Roman, P. ; Dolny, G. ; Grebs, T. ; Stensney, F. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing : proceedings of the sixth international symposium.  pp.158-164,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-36