1.

国際会議録
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1. ION CHANNELING AND SPECTROSCOPIC ELLIPSOMETRY EXAMINATIONS OF THIN-FILM SiO2/EPI-Si(001) STRUCTURES
Fiory, A.T. ; Roy, P. K. ; Jellison, G.E.
出版情報: Chemical surface preparation, passivation, and cleaning for semiconductor growth and processing : symposium held April 27-29, 1992, San Francisco, California, U.S.A..  pp.131-136,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 259
2.

国際会議録
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2. COMPARATIVE STUDIES OF GATE OXIDES USING THERMAL, STACKED GATE, AND RAPID THERMAL OXIDATION
Chittipeddi, S. ; Roy, P. K. ; Kannan, V. C. ; Singh, R. ; Dziuba, C. M.
出版情報: Polysilicon thin films and interfaces.  pp.327-332,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 182
3.

国際会議録
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3. CRYSTALLITE DIMENSIONS AND STRAIN IN POLY-Si AND Ti-SILICIDE THIN FILMS MEASURED WITH GRAZING INCIDENCE X-RAY DIFFRACTION
Leiberich, A. ; Roy, P. K.
出版情報: Thin films : stresses and mechanical properties III : symposium held December 2-5, 1991, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.87-92,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 239
4.

国際会議録
国際会議録
4. Characterization of the Seed SiO2 Layer in Stacked SiO2-Ta2O5 Gate Dielectrics
Roy, P. K. ; Laughery, M. A. ; Chacon, C. M. ; Kanan, A. M. ; Daugherty, T.
出版情報: Ultrathin SiO[2] and high-K materials for USLI gate dielectrics : symposium held April 5-8, 1999, in San Francisco, California, U.S.A..  pp.403-,  1999.  Warrendale, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 567
5.

国際会議録
国際会議録
5. A Two-Step, Lightly Nitrided Gate Oxidation process for Sub-0.5ｦﾌm CMOS Technology
Roy, P. K. ; Ma, Y. ; Flemming, M. T.
出版情報: Materials reliability in microelectronics VI : symposium held April 8-12, 1996, San Francisco, California, U.S.A..  pp.409-,  1996.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 428
6.

国際会議録
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6. Synthesis of Ultrathin Stacked Oxides Using Low Pressure Single Furnace Cluster Process
Roy, P. K. ; Brady, D. ; Chetlur, S. ; Ma, Y. ; Morse, K.
出版情報: Materials reliability in microelectronics VII : symposium held April 8-12, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.89-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 473