1.

国際会議録
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1. Influence of the Height Difference between the First and Second Nitride Layer on Erosion and Dishing in the Dual Nitride Approach for Shallow Trench Isolation
Heylen, N. ; Grillaert, J. ; Vrancken, E ; Badenes, G. ; Rooyackers, R. ; Meuris, M. ; Heyns, M.
出版情報: Proceedings of the Second International Symposium on Chemical Mechanical Planariarization [sic] in Integrated Circuit Device Manufacturing.  pp.26-36,  1998.  Pennington, N. J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-7
2.

国際会議録
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2. Optimization of Polysilicon-Encapsulated LOCOS for 0.25 μm CMOS: Correlation Between Stress and Gate Oxide Integrity
Badenes, G. ; Rooyackers, R. ; De Wolf, I. ; Deferm, L.
出版情報: ULSI science and technology, 1997 : proceedings of the Sixth International Symposium on Ultralarge Scale Integration Science and Technology.  pp.467-478,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-3
3.

国際会議録
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3. L-Shape Spacer Architecture for Low Cost, High Performance CMOS
Augendre, E. ; Perello, C. ; Vandamme, E.P. ; Pochet, S. ; Rooyackers, R. ; Beckx, S. ; De Potter, M. ; Lauwers, A. ; Badenes, G.
出版情報: ULSI Process Integration : proceedings of the International Symposium.  pp.297-304,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-2
4.

国際会議録
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4. A New Dummy-free Shallow Trench Isolation Concept for Mixed-Signal Applications
Badenes, G. ; Rooyackers, R. ; Augendre, E. ; Vandamme, E. ; Perello, C. ; Heylen, N. ; Grillaert, J. ; Deferm, L.
出版情報: ULSI process integration : proceedings of the first international symposium.  pp.231-242,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-18
5.

国際会議録
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5. Lifetime and Leakage Current Studies in Shallow P-N Junctions
Poyai, A. ; Simoen, E. ; Claeys, C. ; Rooyackers, R. ; Badenes, G. ; Gaubas, E.
出版情報: High Purity Silicon VI : proceedings of the sixth International Symposium.  pp.403-413,  2000.  Bellingham, Wash..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-17
6.

国際会議録
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6. Optimization of the Active Area Edge Protection in Shallow Trench Isolation
Augendre, E. ; Rooyackers, R. ; Pochet, S. ; Grau, L. ; Sleeckx, F. ; Vandamme, E.P. ; Badenes, G.
出版情報: ULSI Process Integration : proceedings of the International Symposium.  pp.539-546,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-2
7.

国際会議録
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7. Impact of STI Width and Spacing on the Stress Generation in Deep Submicron CMOS
Poyai, A. ; Rittaporn, I. ; Simoen, E. ; Claeys, C. ; Rooyackers, R.
出版情報: High purity silicon VIII : proceedings of the international symposium.  pp.307-316,  2004.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2004-05
8.

国際会議録
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8. The Low-Frequency Noise in n-MOSFETs on Strained Silicon: Is There Room for Improvement?
Simoen, E. ; Eneman, G. ; Verheyen, P. ; Delhougne, R. ; Rooyackers, R. ; Loo, R. ; Vandervorst, W. ; De Meyer, K. ; Claeys, C.
出版情報: ULSI Process Integration : proceedings of the International Symposium.  pp.349-359,  2005.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-06
9.

国際会議録
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9. Impact of Thermal Budget on Junction Leakage in a 0.18 and 0.13 μm CMOS Technology
Poyai, A. ; Simoen, E. ; Claeys, C. ; Rooyackers, R. ; Redolfi, A.
出版情報: Microelectronics technology and devices : SBMICRO 2002 : proceedings of the seventeenth international symposium.  pp.213-222,  2002.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-8
10.

国際会議録
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10. SSRM And SCM Observation Of Enhanced Lateral As- and BF2-Diffusion Induced By Nitride Spacers
Eyben, P. ; Duhayon, N. ; Stuer, C. ; De Wolf, T. ; Rooyackers, R. ; Clarysse, T. ; Vandervorst, W. ; Badenes, V.
出版情報: Si front-end processing - physics and technology of dopant-defect interactions II : symposium held April 24-27, 2000, San Francisco, California, U.S.A..  pp.B2.2-,  2001.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 610