1.

国際会議録
国際会議録
1. Development of the ASML EUV alpha demo tool
Romeo, C. ; Cantu, P. ; Henry, D. ; Takekoshi, H. ; Hirayanagi, N. ; Suzuki, K. ; McCallum, M. ; Fujita, H. ; Takikawa, T. ; Hoga, M.
出版情報: Emerging lithographic technologies IX : 1-3 March 2005, San Jose, California, USA.  pp.90-101,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5751
2.

国際会議録
国際会議録
2. Power scale-up of the extreme-ultraviolet electric capillary discharge source
Fornaciari, N.R. ; Bender, H. ; Buchenauer, D. ; Dimkoff, J.L. ; Kanouff, M.P. ; Karim, S. ; Romeo, C. ; Shimkaveg, G.M. ; Silfvast, W.T. ; Stewart, K.D.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VI.  Part One  pp.110-121,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4688