1.

国際会議録
国際会議録
1. Effect of quartz phase etch on 193-nm alternating phase-shift mask performance for the 100- nm node
Patterson, K. ; Litt, L.C. ; Maltabes, J.G. ; Hughes, G.P. ; Robertson, T. ; Montgomery, B.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1033-1040,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
2.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
2. Advances in Cross-Contamination Control Using Single-Wafer High-Current Implantation.
Todorov, S.S. ; Eddy, R. ; Bertuch, A. ; Robertson, T. ; Piscitello, W.
出版情報: SME technical paper.  2003.  Society of Manufacturing Engineers