1.

国際会議録
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1. Effect of In Situ H2 Plasma Pretreatment on the Low Temeprature Microcrystalline (μc-Si:H) Silicon Film Deposited on Amorphous Si02 and SiNx:H Surfaces
Park, Y.-B. ; Rhee, S.-W.
出版情報: Chemical vapor deposition : proceedings of the Fourteenth International Conference and EUROCVD-11.  pp.1274-1281,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-25
2.

国際会議録
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2. Deposition of Yttrium or Lanthanum-Substituted Bismuth Titanate Films by Direct Liquid Injection-Metal Organic Chemical Vapor Deposition for Use in Non-Volatile Memories
Kang, S.-W. ; Rhee, S.-W.
出版情報: Chemical vapor deposition XVI and EUROCVD 14 : proceedings of the international symposium.  pp.1419-1425,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-8
3.

国際会議録
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3. FT-IR Diagnostics of Gas Phase Reactions and Effect of Carrier Gases in the Metal- Organic Chemical Vapor Deposition of Aluminum from Dimethylethylamine Alane
Yun, J.-Y. ; Park, M.-Y. ; Rhee, S.-W.
出版情報: Chemical vapor deposition : proceedings of the Fourteenth International Conference and EUROCVD-11.  pp.1551-1558,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-25
4.

国際会議録
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4. Metalorganic Chemical Vapor Deposition of Nickel Films: Investigation of a New Precursor, [Ni(tmen)(μ-tfa]2(μH2O)
Kuang, J.-K. ; Senocq, F. ; Gleizes, A. ; Rhee, S.-W. ; Vahlas, C.
出版情報: CVD XV, proceedings of the fifteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition.  pp.520-527,  2000.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-13
5.

国際会議録
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5. In-Situ FTIR Study on the Role of Surface Hydrides and Fluorides in Low-Temperature Si-CVD
Chung, C.-H. ; Rhee, S.-W. ; Moon, S.H.
出版情報: Proceedings of the Thirteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition.  pp.189-194,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-5
6.

国際会議録
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6. Effect of the Carrier Gases on the CVD of Tungsten from WF6-SiH4
Rhee, S.-W. ; Choi, H.-S. ; Park, S.-K. ; Shimogaki, Y. ; Komiyama, H.
出版情報: Proceedings of the Twelfth International Symposium on Chemical Vapor Deposition.  pp.276-282,  1993.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1993-2
7.

国際会議録
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7. Deposition of SiO2 by Remote Plasma CVD with SiH4-N2O
Rhee, S.-W. ; Park, Y.-B. ; Kang, J.-K.
出版情報: AIchE 1994 Annual Meeting : November 13-18 San Francisco Hilton and Towers Hotel, San Francisco, California.  1994.  New York.  American Institute of Chemical Engineers
シリーズ名: AIChE meeting [papers]
シリーズ巻号: 1994
8.

国際会議録
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8. Deposition of Poly-Si by Remote Plasma CVD with Si2H6-SiF4
Rhee, S.-W. ; Lee, I.-J. ; Kim, D.-H.
出版情報: AIchE 1994 Annual Meeting : November 13-18 San Francisco Hilton and Towers Hotel, San Francisco, California.  1994.  New York.  American Institute of Chemical Engineers
シリーズ名: AIChE meeting [papers]
シリーズ巻号: 1994
9.

国際会議録
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9. Reactive Ion Etching of Tungsten Silicide Films in SF6 Discharges
Park, S.-K. ; Seo, S.-W. ; Rhee, S.-W.
出版情報: Proceedings of the tenth symposium on plasma processing.  pp.469-480,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-20
10.

国際会議録
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10. Copper Dots Deposition Using New Precuresors [Cu'(hfac)]2(DVTMSO) and [Cu (hfac)]2(HD)
Kang, S.-W. ; Yun, J.-H. ; Rhee, S.-W. ; Krisyuk, V. ; Turgambaeva, A.
出版情報: Chemical vapor deposition XVI and EUROCVD 14 : proceedings of the international symposium.  pp.1305-1312,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-8