1.

国際会議録
国際会議録
1. 193-nm resist: ultralow voltage CD-SEM performance for sub-130-nm contact hole process
Ferri, J.E. ; Vieira, M. ; Reybrouck, M. ; Mastovich, M.E. ; Bowdoin, S. ; Brandom, R. ; Knutrud, P.C.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVII.  1  pp.608-617,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5038
2.

国際会議録
国際会議録
2. Resist reflow for 193-nm low-K1 lithography contacts
Montgomery, P.K. ; Lucas, K. ; Strozewski, K.J. ; Zavyalova, L. ; Grozev, G. ; Reybrouck, M. ; Tzviatkov, P. ; Maenhoudt, M.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  2  pp.807-816,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039