1.

国際会議録
国際会議録
1. *PROPERTIES OF BURIED SiO2 FILMS IN SIMOX STRUCTURES
Revesz, A.G. ; Brown, G.A. ; Hughes, H.L.
出版情報: Amorphous insulating thin films : symposium held December 1-4, 1992, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.555-566,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 284
2.

国際会議録
国際会議録
2. The Effect of the Oxide Network Structure on the Irradiation Behavior of SiO2 Films on Silicon
Revesz, A.G. ; Hughes, H.L.
出版情報: Silicon nitride and silicon dioxide thin insulating films VII : proceedings of the international symposium.  pp.488-494,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-2
3.

国際会議録
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3. Hydrogen in Buried SiO2 Layers
Revesz, A.G. ; Stahlbush, R.E. ; Hughes, H.L.
出版情報: The physics and chemistry of SiO2 and the Si-SiO2 interface-4, 2000 : proceedings of the fourth International Symposium on the Physics and Chemistry of SiO2 and the Si-SiO2 Interface, Tronto, Canada, May 15-18, 2000.  pp.235-240,  2000.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-2
4.

国際会議録
国際会議録
4. Charge trapping in BOX layers of SIMOX structures covered with epitaxial silicon
Fedoseenko, S.I. ; Afanas'ev, V.V. ; Revesz, A.G.
出版情報: Proceedings of the Sixth International Symposium on Silicon-on-Insulator Technology and Devices.  pp.253-258,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-11
5.

国際会議録
国際会議録
5. Negative-Bias-Temperature Instability in Si/SiO2 and Si/SiOxNy Structures
Revesz, A.G. ; Hughes, H.L
出版情報: Silicon nitride, silicon dioxide thin insulating films, and other emerging dieletrics VIII : proceedings of the international symposium.  pp.327-339,  2005.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-01