1.

国際会議録
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1. Perfluoropolyethers as novel materials for soft lithography
Reuther, F. ; Kubenz, M. ; Schuster, C. ; Fink, M. ; Vogler, M. ; Gruetzner, G. ; Grimm, J. ; Kaeppel, A.
出版情報: Emerging lithographic technologies IX : 1-3 March 2005, San Jose, California, USA.  pp.410-414,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5751
2.

国際会議録
国際会議録
2. Reactive polymers: a route to nanoimprint lithography at low temperatures
Pfeiffer, K. ; Reuther, F. ; Carlberg, P. ; Fink, M. ; Gruetzner, G. ; Montelius, L.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VII.  1  pp.203-210,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5037
3.

国際会議録
国際会議録
3. Silanized polymeric working stamps for hot embossing lithography
Wissen, M. ; Bogdanski, N. ; Jerzy, R. ; Berrada, Z.E. ; Fink, M. ; Reuther, F. ; Glinsner, T. ; Scheer, H.-C.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VIII.  pp.998-1005,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5374
4.

国際会議録
国際会議録
4. Challenges of processing thick and ultrathick photoresist films
Kubenz, M. ; Ostrzinski, U. ; Reuther, F. ; Gruetzner, G.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  2  pp.1272-1280,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039