1.

国際会議録
国際会議録
1. Integration of HMOSTM Flash Memory in a 90 nm CMOS Technology
De Vos, J. ; Haspeslagh, L. ; Demand, M. ; Redolfi, A. ; Baerts, C. ; Beckx, S. ; Vleugels, F. ; Van Houdt, J.
出版情報: ULSI Process Integration : proceedings of the International Symposium.  pp.306-315,  2005.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-06
2.

国際会議録
国際会議録
2. Impact of Thermal Budget on Junction Leakage in a 0.18 and 0.13 μm CMOS Technology
Poyai, A. ; Simoen, E. ; Claeys, C. ; Rooyackers, R. ; Redolfi, A.
出版情報: Microelectronics technology and devices : SBMICRO 2002 : proceedings of the seventeenth international symposium.  pp.213-222,  2002.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-8