1.

国際会議録
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1. Scatterometer-based scanner fingerprinting technique(ScatterLith) and its applications in image field and ACLV analysis
Wang, C. ; Zhang, G. ; DeMoor, S.J. ; Boehm, M.A. ; Littau, M.E. ; Raymond, C.J.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.541-552,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
2.

国際会議録
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2. Applications of angular scatterometry for the measurement of multiply periodic features
Raymond, C.J. ; Littau, M.E. ; Youn, B.J. ; Sohn, C.-J. ; Kim, J.A. ; Kang, Y.S.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVII.  1  pp.577-584,  2003.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5038
3.

国際会議録
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3. Evaluating scanner lens spherical aberration using scatterometer
Wang, C. ; Zhang, G. ; Tan, C.L. ; Atkinson, C. ; Boehm, M.A. ; Brown, J.M. ; Godfrey, D. ; Littau, M.E. ; Raymond, C.J.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Three  pp.1456-1464,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
4.

国際会議録
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4. Novel implementations of scatterometry for lithography process control
Littau, M.E. ; Raymond, C.J. ; Gould, C.J. ; Gambill, C.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVI.  Part One  pp.506-516,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4689
5.

国際会議録
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5. Comparison of solutions to the scatterometry inverse problem
Raymond, C.J. ; Littau, M.E. ; Chuprin, A. ; Ward, S.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII.  pp.564-575,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5375
6.

国際会議録
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6. Successful application of angular scatterometry to process control in sub-100-nm DRAM device
Kim, J.- ; Kim, S.-J. ; Chin, S.-B. ; Oh, S.-H. ; Goo, D.-H. ; Lee, S.-J. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S. ; Moon, J.-T. ; Raymond, C.J. ; Littau, M.E. ; Youn, B.J. ; Sohn, C.-J.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII.  pp.541-549,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5375