1.

国際会議録
国際会議録
1. Ion Implanted p+/n Diodes: Post-Implantation Annealing in a Silane Ambient in a Cold-Wall Low-Pressure CVD Reactor
Bergamini, F. ; Rao, S.P. ; Poggi, A. ; Tamarri, F. ; Saddow, S.E. ; Nipoti, R.
出版情報: Silicon carbide and related materials - 2005 : proceedings of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials - 2005 : Pittsburgh, Pennsylvania, USA : September 18-23 2005.  pp.819-822,  2006.  Stafa-Zuerich.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 527-529
2.

国際会議録
国際会議録
2. Post-Implantation Annealing in a Silane Ambient Using Hot-Wall CVD
Rao, S.P. ; Bergamini, F. ; Nipoti, R. ; Hoff, A.M. ; Oborina, E. ; Saddow, S.E.
出版情報: Silicon carbide and related materials - 2005 : proceedings of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials - 2005 : Pittsburgh, Pennsylvania, USA : September 18-23 2005.  pp.839-842,  2006.  Stafa-Zuerich.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 527-529