1.

国際会議録
国際会議録
1. Reduction of mask-induced CD errors by optical proximity correction
Randall,J. ; Tritchkov,A. ; Jonckheere,R. ; Jaenen,P. ; Ronse,K.
出版情報: Optical microlithography XI : 25-27 February 1998, Santa Clara, California.  pp.124-130,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3334
2.

国際会議録
国際会議録
2. Automated OPC for application in advanced lithography(Invited Paper)
Ronse,K. ; Tritchkov,A. ; Randall,J. ; Jonckheere,R. ; Ghandehari,K. ; Van den hove,L.
出版情報: Photomask and X-ray mask technology IV : 17-18 April, 1997, Kawasaki, Japan.  pp.138-144,  1997.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3096
3.

国際会議録
国際会議録
3. Variable-threshold resist models for lithography simulation
Randall,J. ; Ronse,K. ; Marschner,T. ; Goethals,M. ; Ercken,M.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.176-182,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679