1.

国際会議録
国際会議録
1. Selective Silicon Nitride Etching by ECR Plasmas Using SF6 and NF3 Based Gas Mixtures
Reyes-Betanzo, C. ; Moshkalyov, S.A. ; Swart, J.W. ; Ramos, A.C.S.
出版情報: Microelectronics technology and devices : SBMICRO 2003 : proceedings of the eighteenth international symposium.  pp.292-301,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-9
2.

国際会議録
国際会議録
2. Synthesis of Carbon Nanotubes by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
Moshkalyov, S.A. ; Reyes-Betanzo, C. ; Swart, J.W. ; Ramos, A.C.S.
出版情報: Microelectronics technology and devices : SBMICRO 2003 : proceedings of the eighteenth international symposium.  pp.311-315,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-9
3.

国際会議録
国際会議録
3. Effect of Oxygen and Nitrogen Additions on Silicon Nitride Reactive Ion Etching in Fluorine Containing Plasmas
Reyes-Betanzo, C. ; Moshkalyov, S.A. ; Ramos, A.C.S. ; Cotta, M.A. ; Swart, J.W.
出版情報: Plasma processing XIV : proceedings of the international symposium.  pp.263-276,  2002.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-17