1.

国際会議録
国際会議録
1. Advances in process overlay: alignment solutions for future technology nodes
H. Megens ; R. van Haren ; S. Musa ; M. Doytcheva ; S. Lalbahadoersing ; M. van Kemenade ; H. Lee ; P. Hinnen ; F. van Bilsen
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
2.

国際会議録
国際会議録
2. New color alignment for CMOS image sensor
M. K. Dagan ; R. Edart ; H. Rechtman ; Y. Kanfi ; P. Warnaar ; O. Moshe ; R. van Haren
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520